影響臥式錐形砂磨機研磨細度因素有很多,主要可以從外在原因和內在原因兩個方面來說。 一、外在原因有分散劑的添加、原料粒徑等原因,這里我們主要講分散劑對研磨細度的影響。在臥式錐形砂磨機中,物料顆粒的粉碎首先主要是依靠高速運動的磨珠間的碰撞、擠壓、剪切實現物料顆粒的粒度變小,比表面積增大。在粒度逐漸細化的過程中,顆粒在范德華力、雙電層靜電作用等影響下會重新團聚。因此,可以認為顆粒超細粉碎到一定程度后,伴隨著一系列顆粒微觀上理化特性的質變,就會出現一個“粉碎團聚”的可逆過程。當這正反兩個過程的速度相等時,便達到了粉碎過程中的動態平衡,則顆粒尺寸達到極限值。此時,進一步延長粉碎時間是徒勞的。因為這時的機械力已不足以解聚團聚體使顆粒進一步破碎,只能用于維持粉碎平衡,并有可能造成更多小顆粒團聚體,于是,所謂的“逆研磨”、“返粗”現象就會出現。從某種程度上說,分散劑的恰當選擇是解決“逆研磨”、“返粗”現象的行之有效的途徑。分散劑可以影響顆粒之間的范德華力、雙電層靜電力、溶劑化膜和吸附層的空間斥力諸作用。所以,超細研磨過程中分散劑的選擇是一項復雜而且難度大的工程,必須綜合考慮方方面面的因素,只有在保證分散劑對產品性能及體系無任何影響的情況下,選擇合適的分散劑及其用量,減少超細研磨漿料中顆粒之間軟團聚體,使顆粒在體系中分散穩定,臥式錐形砂磨機的研磨細度才能實現。
二、內在原因,臥式錐形砂磨機本身結構及技術上的設計。
臥式錐形砂磨機作為一種高效節能的超細粉碎設備,最近十幾年來得到了迅速發展。但是不同廠家產的設備各有不同,同一廠家生產的不用型號的設備其研磨細度也是不一樣的。我們今天就先從研磨介質這塊來講吧。以涂料色漿研磨工藝為例,研磨介質的大小決定了研磨介質與色漿的接觸點的多少,粒徑小的研磨介質在相同體積下的接觸點越多,理論上的研磨效率越高;但另一方面,在研磨初期顏料粒徑較大時,研磨介質粒徑小的沖量較小,達不到較好的研磨效果;研磨后期,大粒徑的研磨介質由于接觸點少,能量密度不足,導致粒徑分布比小尺寸研磨介質差,細度不理想。如,儒佳生產的N系列納米臥式錐形砂磨機,采用的離心分離裝置,可以使用0.1mm以上研磨介質。機身更優的設計,在機器性能上可以更好的實現更細物料的研磨。能滿足大部分客戶的要求。但是也有一些要求更高的客戶,我這就不得不介紹下我們另外一款設備M系列立式臥式錐形砂磨機,這款設備可以填充0.1mm以下研磨介質,應用范圍涵蓋了柔性分散至高能研磨。